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iTops A230Ⅱ

PVD AlN铝溅射系统

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iTops A230Ⅱ PVD AlN铝溅射系统
iTops A230Ⅱ PVD AlN Sputter System
iTops A230 Ⅱ主要用于2/4/6英寸AlN缓冲层沉积工艺。gai机台为单工艺腔室装备，配备传输腔室和冷却腔室。AlN装备具有占地面积。峁辜蚱，操作无邪，维修利便，运营成本低等优势。
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