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半导体装备 Semiconductor

iTops i233

PVD ITO溅射系统

iTops i233 PVD ITO溅射系统

iTops i233 PVD ITO Sputter System

iTops i233主要用于4/6/8英寸ITO沉积工艺。系统由传输？椤⒐ひ漳？、隶属装备以及电源柜组成。gai装备具有占地面积。峁辜蚱，操作无邪，维修利便，运营成本低等优势。

装备特点

产物应用

晶圆尺寸
2、4、6 英寸
适用质料
铟锡氧化物
适用工艺
ITO 电流扩展层

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