离子注入是半导体工业中的主要掺杂要领。它是通过电chang加速和磁chang筛选以及平行化，将特定元素注入到目的质料中的手艺，通过高精度的控制，确保注入剂量的匀称性。因其具有控制精准，各向异性，常温工艺等优点，普遍应用于集成电路, 化合物半导体，面板等领域，成为主流的掺杂工艺。
离子注入装备结构重大，手艺难度高，是半导体制造环节的关jian装备之一。九州酷游凭jie二十多年的半导体研发制造履历与手艺创新，一直突破静电chang加速、剂量控制、电磁chang筛选等多项关jian手艺，开发出两款中束流装备。公司将继续推进离子注入装备的全笼罩，为半导体制造领域提供全套的离子注入解决方案。
